Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
Electron beam lithography — (often abbreviated as e beam lithography) is the practice of scanning a beam of electrons in a patterned fashion across a surface covered with a film (called the resist),cite book |last= McCord |first=M. A. |coauthors=M. J. Rooks |title=… … Wikipedia
Ionenstrahlschreiben — jonpluoštis paveikslo sukūrimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam image writing vok. Ionenstrahlschreiben, n rus. ионно пучковое формирование рисунка, n pranc. définition de dessin par faisceau, f; définition de motif … Radioelektronikos terminų žodynas
définition de dessin par faisceau — jonpluoštis paveikslo sukūrimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam image writing vok. Ionenstrahlschreiben, n rus. ионно пучковое формирование рисунка, n pranc. définition de dessin par faisceau, f; définition de motif … Radioelektronikos terminų žodynas
définition de motif par faisceau — jonpluoštis paveikslo sukūrimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam image writing vok. Ionenstrahlschreiben, n rus. ионно пучковое формирование рисунка, n pranc. définition de dessin par faisceau, f; définition de motif … Radioelektronikos terminų žodynas
jonpluoštis paveikslo sukūrimas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam image writing vok. Ionenstrahlschreiben, n rus. ионно пучковое формирование рисунка, n pranc. définition de dessin par faisceau, f; définition de motif par faisceau, f … Radioelektronikos terminų žodynas
ионно-пучковое формирование рисунка — jonpluoštis paveikslo sukūrimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam image writing vok. Ionenstrahlschreiben, n rus. ионно пучковое формирование рисунка, n pranc. définition de dessin par faisceau, f; définition de motif … Radioelektronikos terminų žodynas
Superlens — A superlens, super lens or perfect lens is a lens which uses metamaterials to go beyond the diffraction limit. The diffraction limit is an inherent limitation in conventional optical devices or lenses.[1] In 2000, a type of lens was proposed,… … Wikipedia
Electron microscope — Diagram of a transmission electron microscope A 197 … Wikipedia
Maskless lithography — In maskless lithography, the radiation that is used to expose a photosensitive emulsion (or photoresist) is not projected from, or transmitted through, a photomask.[1] Instead, most commonly, the radiation is focused to a narrow beam. The beam is … Wikipedia
Space debris — populations seen from outside geosynchronous orbit (GEO). Note the two primary debris fields, the ring of objects in GEO, and the cloud of objects in low earth orbit (LEO) … Wikipedia
